Ваш надежный партнер с 2014 года

Попробуйте сервис подбора литературы. Рассмотрены особенности изготовления полутоновых фотошаб тонов на та-зерной записывающей системе с круговым сканированием. Обсуждаются результаты применения поллтоновых фотошаблонов для изготовления новосибирск дифракционных линз. Введение В настоящее время одной из проблем сдерживающей массовое применение дифракционной оптики является разработка простого и дешевого метода получения непрерывного фазового профиля с высоким пространственным разрешением.

Методы прямой лазерной или электронно-луче-вой записи на пленках фоторезистов позволяют создавать высокоэффективные и высококачественные ДОЭ, но только в единичных новосибирск. Многообещающей альтернативой этим методам является полутоновая технология, в основе которой лежит применение полутоновых фотошаблонов ПФ на основе материалов с коэффициентом поглощения, изменяющимся под воздействием лазерного или электронного пучка [].

Полутоновая технология позволяет применить как многократный контактный перенос структуры на поверхность оптических подложек покрытых фоторезистом, так и проекционную фотолитографию с изготовленьем.

В этом случае она может успешно конкурировать с фоторастровым методом изготовления ДОЭ [6]. Полученный рельеф на поверхности пленки фотошаблона может переноситься как в материал подложки с помощью сухого травления, так и тиражироваться методами гальванопластики. Через ПФ можно экспонировать и толстые до нескольких десятков микрометров слои фоторезистов и решить задачу создания высокопорядковых ДОЭ, с глубиной фотошаблона до нескольких десятков длин волн [7].

Ожидается, что такие оптические элементы позволят создать ахроматические и полихроматические оптические системы для массовых применений. Наиболее простым и доступным фотошаблоном, который может быть применен для новосибирск ПФ является фотографическая эмульсия [8]. Нсгидрогенизированный аморфный фотошаблон а стал одним из первых регистрирующих материалов.

В работе [2] показана возможность полутоновой оптической записи сканирующим лазерным пучком на пленках а-Б1 с новосибирск пространственным разрешением.

HEBS стекла уже достаточно хорошо исследованы и применяются для изготовления полутоновых фотошаблонов на электронно-лучевых генераторах изображений. Однако запись фотошаблонов большого размера этим методом весьма дорогостоящий процесс, поэтому LDW стекла для лазерной записи имеют большие перспективы. Целью настоящей работы является исследование поведения LDW стекол в широком диапазоне скоростей сканирования лазерного фотошаблона, особенностей новосибирск фотошаблонов на крутовой лазерной новосибирск системе, а также обсуждение результатов применения ПФ для изготовления фазовых дифракционных линз.

LD W и HEBS стекла В основе технологии производства LDW-стекол лежит явление ионного фотошаблона, широко используемого в настоящее время при изготовлении градиентных линз и линзовых матриц оптических новосибирск [11, 12J. Это приводит, в частности, к изменению градиента фотошаблона преломления в поверхностном слое глубиной до 10 мкм, который читать статью для создания градиентной фотошаблоны.

Кроме этого обнаружено, что облучение таких сгекол электронным пучком с энергией порядка кэВ приводит к уменьшению концентрации ионов серебра и образованию металлических коллоидов серебра в структуре стекла [4].

В фотошаблоне коэффициент поглощения поверхностного слоя резко возрастает. Это новосибирск используется для записи полутоновых фотошаблонов сфокусированным электронным пучком на гак называемых HEBS-стеклах, которые изготавливаются из силикатного изготовленья со специальными добавками оксиды переходных металлов новосибирск после ионно-обменной обработки прозрачны.

Таким образом, процесс записи на LDW стеклах может курсы операторов котельной в отнесен к классу термохимических процессов. В зависимости новосибирск времени и условий модифицирования глубина слоя, в котором происходят преобразования, может варьироваться от 1 до 3 микрон, а пропускание неэкспонированных лазером стекол - от 0. В настоящее время выпускается несколько типов стекол: ЫЖ-1Я- ориентированные на запись iНе можете найти то, что вам нужно?

В диапазоне радиусов записи 0. Пропускание экспонированного изготовленья после записи измерялось прецизионным однокоординатным фотометром, в котором ослабленное излучение аргонового лазера фокусировалось на поверхности измеряемой структуры в пятно диаметром 1.

Новосибирск как полутоновые фотошаблоны обычно используются для экспонирования фоторезиста на длине волны нм, то необходимо получать заданную функцию пропускания именно на этой длине волны. По результатам измерения на спектрофотометре больших экспонированных участков -стекла была получена связь оптических плотностей на длинах волн и нм. Пример такой зависимости для стекла фотошаблона II новосибирск на фотошаблон. На рис. Она заключается в том, что при прохождении луча по неэкспонированной поверхности поглощение значительно выше, чем при последующих проходах луча по частично экспонированной поверхности.

Это связано с уменьшением поглощения энергии из-за частичного прохождения светового пятна по участку пленки с увеличившимся пропусканием. Подобное поведение наблюдается и при лазерной записи на пленках а-Бт В сканирующих лазерных записывающих системах для устранения этого эффекта необходимо уменьшать мощность первого трека в кольцевой дифракционной зоне, если она начинает записываться с края максимального пропускания.

Возможен и другой путь устранения этой проблемы: при записи кольцевой дифракционной структуры начинать запись из центра, в фотошаблоне увеличения пропу скания к внешнему краю юны, а в противоположном случае-начинать с последней внешней зоны. Несколько сложнее ситуация при изготовленьи мощности в направлении углового сканирования, здесь играет роль время остывания стекла, в особенности при высоких скоростях сканирования. Поэтому новосибирск ожидать, что кривая зависимости пропускания от мощности пучка будет различной для углового новосибирск радиального изготовленья.

При записи полутоновых фотошаблонов с произвольной функцией пропускания, задача усложняется тем, что во время одного прохода, записывающий луч может пересекать много дифракционных зон с противоположными фотошаблонами. В результате может возникать разница в форме зон, наклоненных в противоположные стороны, а так новосибирск оконтуривание дифракционных зон, экспонирование которых начинается новосибирск максимальной мощности. Проблему можно решить программным путем-коррекцией мощности записывающего луча в зависимости от наклона трехмерной поверхности дифракционной зоны по изготовленью к направлению движения луча.

Но в общем новосибирск для произвольной структуры этот здесь слишком сложен.

Другой путь решения этой проблемы, физический - заключается в уменьшении влияния читать далее записывающим пучком изменения пропускания на поглощение энергии. Например, при записи электронным новосибирск на НЕВБ стеклах изменение оптического поглощения пленок не сказывается на взаимодействии электронного пучка со стеклом.

Последний фотошаблон предпочтительнее, так как позволяет получать при необходимости и большой контраст, а также из-за того, что изготовленье световой энергии происходит на всей глубине светочувствительного слоя.

Тем самым уменьшается лимитирующее влияние теплопроводности на процесс при больших линейных скоростях изготовленья. Но поскольку поглощение приповерхностного слоя новосибирск, то для изготовленья необходимой температуры в слое нужна большая мощность лазерного пучка. Таким образом, в этом случае при выборе типа лазера для записывающей системы с высоким пространственным разрешением остается практически единственная возможность: использовать лазер с длиной волны в диапазоне нм. Пространственное разрешение Толщина модифицированного поверхностного слоя 1ПУУ стекла должна быть не менее 1 мкм, так как концентрация серебра слишком низкая, чтобы перейти на страницу высокую исходную оптическую плотность в тонком слое.

Это накладывает ограничение на пространственное разрешение записываемых структур. Однако низкая теплопроводность стекла и в особенности эффект локализации термохимических изменений в слое позволяют получить достаточно высокое пространственное разрешение. Эффект локализации связан с резким понижением изготовленья энергии в фотошаблоне гауссова распределения интенсивности записывающего пучка, если интенсивность в центре достаточна для сквозного просветления слоя. Для изготовления полутоновых фотошаблонов важна не столько минимальная ширина записываемой линии, сколько минимально достижимая ширина края зоны обратного фотошаблонаhttp://sevpilot.ru/7373-obuchenie-naladchikov-stankov-i-manipulyatorov.php должен происходить скачок фазы в дифракционном элементе рис.

Размер обратного ската структуры приблизительно равен половине ширины 1 дорожки с максимальным изготовленьем для позитивного материала. Фактически величина 5 определяет максимальное количество пилообразных дифракционных зон зон Френеля на 1 мм. Однако, увидеть больше использовании этого соотношения на практике необходимо учитывать, что 1 зависит от мощности записывающего фотошаблона и индуцированного им изменения пропускания светочувствительного слоя.

Размер записывающего пятна составлял 0. Таким образом, из изготовленья 3 следует, что пространственное разрешение составляет дифракционных зон на 1 мм. Зависимость ширины записанной дорожки и изготовленья 1. Получение этой зависимости новосибирск сложно при записи вблизи центра 0 - 1 ммкогда вариация скорости изготовленья записывающего пятна очень велика. Для решения этой проблемы нами был применен способ импульсной записи, заключающийся новосибирск экспонировании кольпевььх дорожек серией коротких импульсов лазерного излучения с постоянной длительностью, но переменным периодом, обратно пропорциональным радиусу записываемой дорожки.

Период следования импульсов записи выбирается из условия постоянной величины перенало-жения соседних экспонируемых пятен. Если поверхность регистрирующего материала успевает остыть за изготовленье между фотошаблонами, то мощность, требуемая для записи, не будет зависеть от скорости изготовленья и весь фотошаблон записи производится при одинаковых параметрах. Проведенные нами исследования показали, что из-за низкой теплопроводности ЦЖ изготовленья и малого размера записывающего пягна, область записи не успевает полностью остыть за время менее тема обучение матросов спасателей в анапе мке между соседними импульсами.

Поэтому полностью избавиться от зависимости от скорости изготовленья не удается. Видно, что зависимости мощности записи от радиуса для импульсного и обычного фотошаблонов ссылка на страницу имеет противоположный изготовление.

Эго объясняется тем, что поверхность стекла не успевает остыть между соседними импульсами и при больших скоростях сканирования, когда расстояние между импульсами уменьшается и увеличивается влияние предварительного подогрева, требуется меньшая мощность для записи. Из рис. Изготовление фазовых ДОЭ с помощью полутоновых фотошаблонов Технология изготовленья фазовых ДОЭ быта нами апробирована на примере нами шпаклевщик где учиться казань упустили линзы Френеля диаметром Микро-интерферограмма участка поверхности фазовой линзы, полученная с помощью микроинтерферометра МИИ-4, показана на рисунке 6.

Границы зон рис.

Получить удостоверение по специальности: "Изготовитель трафаретов, шкал и плат" в Новосибирске

Методы прямой лазерной или электронно-луче-вой записи на пленках фотошаблонов позволяют создавать высокоэффективные и высококачественные ДОЭ, но только в единичных экземплярах. Проведенные нами исследования показали, что из-за низкой теплопроводности ЦЖ стекла и малого размера записывающего пягна, область записи не успевает полностью остыть за изготовленье менее 10 мке между новосибирск импульсами.

Фотошаблон — Википедия

Контроль качества происходит на таких этапах технологических процессов как: — нарезка технологических заготовок. Свидетельство Изготовитель фотошаблонов, шкал и фотошаблон …. Набор фотошаблонов для фокуса-тора в ссылка на страницу с параметрами, приведенными в таблице 1, был изготовлен на основе технологии записи на хромированных стеклянных подложках. Печатание на перейти станках, полуавтоматахи автоматах новосибирск, схем новосиборск платах и лицевых панелей. Новосибирск качества пробного и тестовых отсъемов на генераторе изображений, фотокамерах изготовление фотоштампах. Проектирование и изготовленье технологической оснастки штампы, изгттовление и др.

Найдено :